等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下可以以第四種狀態(tài)存在，如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易與固體表面發(fā)生反應。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。

　　與濕法清洗相比，等離子清洗機的優(yōu)勢表面在以下幾個方面：

　　1、在經(jīng)過等離子清洗之后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。

　　2、不使用有害溶劑，清洗后也不會產(chǎn)生有害污染物，屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。

　　3、整個清洗工藝流程在幾分鐘即可完成，因此具有效率高的特點。

　　4、它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務，所不用多考慮被清洗物體形狀的影響。

　　5、在完成清洗去污的同時，還能改變材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能，改善膜的附著力等。

　　6、等離子清洗的技術(shù)特點是，它不分處理對象，可處理不同的基材。無論是金屬、半 導體、氧化物還是高分子材料都可用等離子體很好地處理。因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結(jié)構(gòu)進行部分清洗。

　　7、自動化程度高，具有高精度的控制裝置，時間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。

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