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產品簡介
真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD是一款小型高真空蒸發鍍膜系統。蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發。廣泛應用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等。鍍銅可打底用，增進電鍍層附著能力，及抗蝕能力。
| 品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 化工,電子 |
鄭科探小型蒸鍍儀
-熱蒸發源：電阻式熱蒸發舟，交流電源；
-腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；
-泵：前級干泵，分子泵；
工藝控制：PC/PLC機制的自動控制、數據處理、工藝記憶儲存；-
襯底固定：單襯底固定，客戶化襯底固定方式；
- 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉等；
- 保護樣品：配有樣品擋板，可手動或自動開/關擋板，達到及時遮擋樣品效果；
1.鍍銅：打底用，增進電鍍層附著能力，及抗蝕能力。
2.鍍鎳：打底用或做外觀，增進抗蝕能力及耐磨能力，(其中化學鎳為現代工藝中耐磨能力超過鍍鉻)。
3.鍍金：改善導電接觸阻抗，增進信號傳輸。
4.鍍鈀鎳：改善導電接觸阻抗，增進信號傳輸，耐磨性高于金。
5.鍍錫鉛：增進焊接能力，快被其他替物取代(因含鉛現大部分改為鍍亮錫及霧錫)。銅顆粒
。
銅顆粒
真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD鍍樣品
真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術資料
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 | 數字式功率調整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
最大功率 | ≤1200W |
最大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （最大可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品蒸發源調節距離 | 70-140mm |
蒸發溫度調節 | ≤1800℃ |
支持蒸發坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
技術支持&服務：
1. 技術支持：在合同簽訂之前，我們的專業工程師會在充分了解客戶需求的前提下，為客戶做出*的選型和方案設計，使客戶充分了解并理解產品技術指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等，以幫助客戶做出正確的選擇。
2. 安裝與培訓：在產品使用前，我們會派專業工程師為您提供現場技術支持、培訓及演示服務。
3. 產品質保：我們對產品提供12個月的質保期，在質保期內發生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。（耗材和易損件除外）
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